单项选择题

光刻工艺中，脱水烘焙的最初温度是（）。

A.150－200℃
B.200℃左右
C.250℃左右
D.300℃左右

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热门 试题

多项选择题
在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。

A.CA光刻胶对深紫外光吸收小
B.CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化
C.CA光刻胶在显影液中的可溶性强
D.有较高的光敏度
E.有较高的对比度
单项选择题
在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。

A.DQN
B.CA
C.ARC
D.PMMA
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