坚膜烘焙在加热平板上进行，温度控制在（）。

在显影过程中，对于正性抗蚀剂，显影液的使用要求是（）。

A.显影液可以使用丁酮
B.显影液可以使用甲苯
C.显影液可以使用丙酮
D.显液可以使用甲基异丁基酮和异丙醇的1：1混合液

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当需要刻蚀的图形尺寸大于3um时，一般使用（）。

A.湿法刻蚀
B.溅射刻蚀
C.等离子体刻蚀
D.反应离子刻蚀

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