单项选择题
A.显影液的温度 B.显影液的浓度 C.显影液的溶解度 D.显影液的化学成分
A.ARC可以是硅的氮化物 B.可用干法刻蚀除去 C.ARC膜可以通过PVD或者CVD的方法形成 D.ARC在刻蚀中也可做为掩蔽层 E.ARC膜也可以通过CVD的方法形成
A.烘烤的目的是除去光刻胶中的水分 B.烘烤可以减轻曝光中的驻波效应 C.烘烤的温度一般在300℃左右 D.烘烤的时间越长越好