单项选择题

溅射台使用的AlSi靶材中，Si的含量是（）

A.0.5%
B.1%
C.0.05%
D.0.1%

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单项选择题

P5000机台属于哪种类型的CVD工艺（）

A.APCVD
B.LPCVD
C.PCVD
D.PECVD

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溅射过程中通过将哪种气体轰击靶材（）

A.He气
B.N₂气
C.Ar气
D.O₂气

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