单项选择题
P5000机台属于哪种类型的CVD工艺()
A.APCVD
B.LPCVD
C.PCVD
D.PECVD
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试题
单项选择题
溅射过程中通过将哪种气体轰击靶材()
A.He气
B.N
2
气
C.Ar气
D.O
2
气
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问答题
为什么同一膜层的所有透过率极大值都相等?
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