单项选择题
溅射过程中通过将哪种气体轰击靶材()
A.He气
B.N
2
气
C.Ar气
D.O
2
气
点击查看答案&解析
<上一题
目录
下一题>
热门
试题
问答题
为什么同一膜层的所有透过率极大值都相等?
点击查看答案
问答题
TiO2膜层的所有透过率极小值均不相等说明了什么?
点击查看答案
相关试题
PLD沉积合金薄膜时比蒸发的成分可控性要好...
MOCVD通常用于制备外延薄膜。
温度越高,吸附原子解吸附越快,所以扩散距...
溅射镀膜中,气压越高,入射离子越多,因此...
磁控溅射可以是直流溅射,也可以是射频溅射。