单项选择题

P5000设备气态源制备SIN工艺中参与反应的气体是（）

A.SiH4、O2
B.SiH4、NH3
C.SiH4、N2O
D.SiH4、N2

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单项选择题
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A.0.5%
B.1%
C.0.05%
D.0.1%
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P5000机台属于哪种类型的CVD工艺（）

A.APCVD
B.LPCVD
C.PCVD
D.PECVD
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