蒸发台以下哪项参数对膜厚影响最大（）

P5000设备气态源制备SIN工艺中参与反应的气体是（）

A.SiH₄、O₂
B.SiH₄、NH₃
C.SiH₄、N₂O
D.SiH₄、N₂

点击查看答案&解析

溅射台使用的AlSi靶材中，Si的含量是（）

A.0.5%
B.1%
C.0.05%
D.0.1%

点击查看答案&解析