单项选择题

在硅片加工中可以接受的膜，以下不具备需要的膜特征（）

A.好的台阶覆盖能力
B.填充高的深宽比间隙的能力
C.好的厚度均匀性
D.高的膜应力

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单项选择题
蒸发台以下哪项参数对膜厚影响最大（）

A.行星架转速
B.加热温度
C.熔源时间
D.tooling值
单项选择题
P5000设备气态源制备SIN工艺中参与反应的气体是（）

A.SiH4、O2
B.SiH4、NH3
C.SiH4、N2O
D.SiH4、N2
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