单项选择题

蒸发台以下哪项参数对膜厚影响最大（）

A.行星架转速
B.加热温度
C.熔源时间
D.tooling值

<上一题 目录 下一题>
热门 试题

单项选择题
P5000设备气态源制备SIN工艺中参与反应的气体是（）

A.SiH4、O2
B.SiH4、NH3
C.SiH4、N2O
D.SiH4、N2
单项选择题
溅射台使用的AlSi靶材中，Si的含量是（）

A.0.5%
B.1%
C.0.05%
D.0.1%
相关试题