多项选择题

下列哪些是进行光刻前的预处理的步骤?()

A.脱水烘烤
B.旋转涂布法涂HMDS
C.气拍涂底法涂HDMS
D.软烘

<上一题 目录 下一题>
热门 试题

多项选择题
根据曝光模式,光制机的种类分为()。

A.接触式曝光
B.接近式曝光
C.扫描式曝光
D.投影式曝光

多项选择题
刻蚀的过程中,对刻蚀的要求是()

A.图形的保真度高
B.选择比越接近1:1越好
C.均匀性好
D.晶圆表面的洁净

相关试题
  • 环境温度的变化可影响硅片的涂胶均匀性,通...
  • 光刻胶对人部分可见光敏感,但对()光不敏感。
  • 高压汞灯作为紫外光源被使用有常规i线步进...
  • 坚膜烘焙在加热平板上进行,温度控制在()。
  • 在显影过程中,对于正性抗蚀剂,显影液的使...