填空题
制备TiO
2
等介质薄膜可以采用()溅射方法。
【参考答案】
射频
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填空题
在硅片上热氧化0.5μm厚的氧化层时,硅片增厚了()μm。
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填空题
热氧化工艺本质上是在硅与二氧化硅()发生的硅的氧化反应。
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