多项选择题

按曝光的光源分类，曝光可以分为（）。

A.光学曝光
B.离子束曝光
C.接近式曝光
D.电子束曝光
E.投影式曝光

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热门 试题

单项选择题
在VLSI工艺中，常用的前烘方法是（）。

A.热空气对流法
B.真空热平板传导法
C.红外线辐射法
D.射频感应加热法
单项选择题
涂胶以后的晶片，需要在一定的温度下进行烘烤，这一步骤称为（）。

A.后烘
B.去水烘烤
C.软烤
D.烘烤
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