多项选择题
下列哪个工艺方法应用了等离子体技术()
A.RIE
B.MOCVD
C.溅射
D.LPCVD
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试题
单项选择题
实际VPE工艺温度多在质量传递控制区,此时外延速率()
A.对温度不太敏感
B.对温度非常敏感
C.源的气相扩散的影响不大
D.源气体分压的影响不大
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判断题
涂胶前的打底膜是为了增强光刻胶与衬底之间的浸润性。
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