简答题 述集成电路的常规掩模版制备的工艺流程。

【参考答案】

硅平面晶体管或集成电路掩模版的制作，一般地讲，要经过原图绘制（包括绘总图和刻分图）、初缩、精缩兼分步重复、复印阴版和复印......

(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)