填空题

负胶适于刻蚀()(细/粗)线条。

【参考答案】

粗
<上一题 目录 下一题>
热门 试题

填空题
曝光后显影时感光的胶层没有溶解,没有感光的胶层溶解,这种胶为()(正 负)胶。
判断题
在LPCVD中,由于hG>>kS,即质量转移系数远大于表面反应速率常数,所以,LPCVD系统中,淀积过程主要是表面反应速率控制
相关试题
  • 碳纳米管场效应晶体管是未来晶体管发展趋势...
  • CE定律发展面临的问题包括()。
  • IC集成度和性能得以不断提高的理论基础是(...
  • 三光检查主要是检查芯片粘贴和引线焊接之后...
  • 芯片粘接的工艺过程包括()。