填空题
负胶适于刻蚀()(细/粗)线条。
【参考答案】
粗
点击查看答案
<上一题
目录
下一题>
热门
试题
填空题
曝光后显影时感光的胶层没有溶解,没有感光的胶层溶解,这种胶为()(正 负)胶。
点击查看答案
判断题
在LPCVD中,由于hG>>kS,即质量转移系数远大于表面反应速率常数,所以,LPCVD系统中,淀积过程主要是表面反应速率控制
点击查看答案
相关试题
碳纳米管场效应晶体管是未来晶体管发展趋势...
CE定律发展面临的问题包括()。
IC集成度和性能得以不断提高的理论基础是(...
三光检查主要是检查芯片粘贴和引线焊接之后...
芯片粘接的工艺过程包括()。