问答题
简答题 热生长氧化物和CVD氧化物的本质区别是什么?
【参考答案】
生长的薄膜与消耗的硅衬底,淀积的薄膜不消耗硅衬底。热生长的二氧化硅来自气相氧,硅来自衬底,当薄膜生长进入衬底时,这个过程......
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问答题
半导体工艺中常用的三种CVD反应器类型
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名词解释
什么是过刻蚀; 过刻蚀名词解释定义是什么?
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