简答题 简述HPCVD工艺的五个步骤

【参考答案】

（1）离子诱导淀积：指离子被托出等离子体并淀积形成间隙填充的现象
（2）溅射刻蚀：具有一定能量的Ar和因为硅片......

(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)