单项选择题

下面选项属于主扩散的作用有（）。
1.调节表面浓度
2.控制进入硅表面内部的杂质总量
3.控制结深

A.1
B.2
C.3
D.1、3

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单项选择题

不论正胶或负胶，光刻过程中都包括如下步骤： 1.刻蚀 2.前烘 3..显影 4.去胶 5.涂胶 6.曝光 7.坚膜以下选项排列正确的是：（）。

A.2561437
B.5263471
C.5263741
D.5263714。

单项选择题

半导体器件生产中所制备的二氧化硅薄膜属于（）。

A.结晶形二氧化硅
B.无定形二氧化硅

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