简答题 为什么硅片热氧化结束时通常还要进行氢气或氢－氮混合气体退火？

【参考答案】

距Si/SiO2界面2nm以内的Si的不完全氧化是带正电的固定氧化物电荷区；对于器件的正常工作，界面处的电荷堆积是不受欢......

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