问答题
简答题 简述掺杂工艺流程
【参考答案】
1) 衬底清洗
2) 生长掩蔽膜
3) 对掩蔽膜进行光刻和刻蚀
4) 进行选择性掺杂
5) 检测、评估
点击查看答案
<上一题
目录
下一题>
热门
试题
问答题
简述光刻胶的去除方法的三种?
点击查看答案
问答题
简述干法刻蚀的应用:气体组成及作用?
点击查看答案
相关试题
碳纳米管场效应晶体管是未来晶体管发展趋势...
CE定律发展面临的问题包括()。
IC集成度和性能得以不断提高的理论基础是(...
三光检查主要是检查芯片粘贴和引线焊接之后...
芯片粘接的工艺过程包括()。