填空题
()和()是半导体器件的最常用掺杂方法。()、()是Si常用的施主杂质;()是Si常用的受主杂质;()是GaAs常用的P型掺杂剂;()是GaAs常用的N型掺杂剂。
【参考答案】
热扩散;离子注入;P;As;B;Zn;Si
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问答题
画出P型(100)、(111)和N型(100)、(111)单晶抛光硅片的外形判别示意图。
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填空题
半导体集成电路主要的衬底材料有单元晶体材料()、()和化合物晶体材料()、();硅COMS集成电路衬底单晶的晶向常选();TTL集成电路衬底材料的晶向常选();常用的硅集成电路介电薄膜是()、();常用的IC互连线金属材料是()、()。
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