单项选择题
A.沟道区同时存在产生电流和复合电流,但可相互抵消B.沟道区既不存在产生电流,也不存在复合电流C.沟道区存在复合电流D.沟道区存在产生电流
A.Wm< WsB.向沟道区掺入BC.衬源间施加负偏压D.增加SiO2层的厚度
A.半导体表面附近的空穴数量变化跟不上信号变化B.半导体表面附近的电子数量变化跟不上信号变化C.半导体发生了深耗尽D.半导体表面附近的电子不能产生