湿法腐蚀Si所用溶液有（）、（）等，腐蚀SiO₂常用的腐蚀剂是（），腐蚀Si₃N₄常用的腐蚀剂是（）。

控制湿法腐蚀的主要参数有（）、（）、（）、（）等。 点击查看答案

光刻中影响甩胶后光刻胶膜厚的因素有（）、（）、（）、（）。 点击查看答案