填空题

光刻工艺的分辨率决定于:()和曝光、显影、刻蚀条件的正确控制。正胶的分辨率()于负胶的分辨率;光刻胶越薄,分辨率越()。

【参考答案】

光刻机的分辨率、光刻胶的种类、光刻胶的厚度、光刻胶的对比度;高;高
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填空题
前烘的目的是()使胶膜中的溶剂只有初始浓度的()。从而,使胶的()性能稳定。对正胶,前烘过度会使非曝光区的胶();前烘不足,会使胶的感光度(),对比度(),线条边缘不陡直。所以,必须严格控制前烘的()和()。
填空题
光刻胶的三种主要成分是:()。正胶的感光剂是(),曝光使其(),正胶的曝光区在显影后(); 曝光使负胶的感光剂(),使曝光区在显影后()。
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