单项选择题

以下工艺中,方块电阻是一个重要的参数,一般用于衡量()工艺中杂质情况。

A.氧化
B.扩散
C.光刻
D.刻蚀

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热门 试题

单项选择题
在制作MOS管时,采用LOCOS工艺容易出现()。

A.沟道效应
B.鸟嘴效应
C.寄生效用
D.闩锁效应

单项选择题
光刻时,将掩模版直接放在晶圆表面,与表面的光刻胶接触,该种光刻方式称为()。

A.接触式
B.接近式
C.投影式
D.步进式

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