多项选择题

下列哪个工艺方法应用了等离子体技术()

A.RIE
B.MOCVD
C.溅射
D.LPCVD

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热门 试题

单项选择题
实际VPE工艺温度多在质量传递控制区,此时外延速率()

A.对温度不太敏感
B.对温度非常敏感
C.源的气相扩散的影响不大
D.源气体分压的影响不大

多项选择题
蒸镀工艺要求蒸镀室为高真空度的原因()

A.为了避免蒸发分子(或原子)被氧化
B.为了降低镀膜中的杂质
C.为了减小蒸发分子(或原子)的平均自由程
D.为了制备的镀膜表面更平坦

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