单项选择题
如果制作栅氧结构,一般采用的方法是()。
A.湿氧氧化
B.氢氧合成
C.CVD
D.干氧氧化
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单项选择题
版图设计中下述哪个不是金属2和金属3之间的通孔所用到的图层:()。
A.金属2
B.金属3
C.孔2
D.孔3
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单项选择题
下列版图中显示的图层不会被制成掩膜版的是:()。
A.多晶层
B.电阻标识层
C.有源区层
D.金属层
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