单项选择题
A.绝缘膜,电气隔离作用的元件分离膜B.降低电阻,如栅极上采用的硅化物膜C.电气连接作用,如铝中添加微量铜的铝膜D.LSI最上面的SiN膜是为了实现绝缘
A.国外称制作工艺为掩模工艺(masking)B.掩模工艺本质上是光刻工艺C.光刻工艺要利用曝光的手段D.曝光用的是无线电波
A.图形很小所以叫微影B.掩模尺寸大于实际图形,曝光时要进行微缩投影C.想得到更大的分辨率要用更短的光和孔径更大的透镜D.曝光过程要步进重复,对硅圆片扫描