问答题
论述题 下图为直流等离子放电的I-V曲线,请分别写出a-g各段的名称。可用作半导体制造工艺中离子轰击的是其中哪一段?试解释其工作原理。
【参考答案】
ab段为无光放电区;bc段为汤生放电;c点为放电的着火点,cd段为前期辉光放电;de段为正常辉光放电区ef段为反常辉光放......
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
点击查看答案
<上一题
目录
下一题>
热门
试题
问答题
简述几种典型真空泵的工作原理。
点击查看答案
问答题
什么是扩散效应?什么是自掺杂效应?这两个效应使得衬底 外延界面杂质分布有怎样的变化?
点击查看答案
相关试题
解释离子束扩展和空间电荷中和。
离子源的目的是什么?最常用的离子源是什么?
例举离子注入设备的5个主要子系统。
例举离子注入工艺和扩散工艺相比的优点和缺点。
例举并解释硅中固态杂质扩散的三个步骤。