设备、试剂、气瓶等所有物品不需经严格清洁处理，可直接进入净化区。（）

光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的，曝光后硬化成不可溶解的物质，这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂，由此组成的光刻胶称为负性胶。（） 点击查看答案

半导体芯片制造工艺对水质的要求一般.（） 点击查看答案