光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差要低。（）

干法腐蚀清洁、干净、无脱胶现象、图形精度和分辨率高。（） 点击查看答案

设备、试剂、气瓶等所有物品不需经严格清洁处理，可直接进入净化区。（） 点击查看答案