问答题
论述题
下图为一个典型的离子注入系统。(1)给出1~6数字标识部分的名称,简述其作用。(2)阐述部件2的工作原理。
【参考答案】
1.离子源2.分析磁块3.加速器4.中性束闸5.x&y扫描板6.法拉第杯
1.离子源作用:产生注入用的离子原理......
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
点击查看答案
<上一题
目录
下一题>
热门
试题
问答题
Si-SiO2界面电荷有哪几种?简述其来源及处理办法。
点击查看答案
问答题
一片硅片由0.3um厚的SiO2薄膜覆盖。所需数据见下表,玻尔兹曼常数k=1.38×10-23。(1)在1200℃下,采用H2O氧化,使厚度增加0.5um需要多少时间?。(2)在1200℃下,采用干氧氧化,增加同样的厚度需要多少时间?
点击查看答案
相关试题
解释离子束扩展和空间电荷中和。
离子源的目的是什么?最常用的离子源是什么?
例举离子注入设备的5个主要子系统。
例举离子注入工艺和扩散工艺相比的优点和缺点。
例举并解释硅中固态杂质扩散的三个步骤。