问答题
论述题
Si-SiO
2
界面电荷有哪几种?简述其来源及处理办法。
【参考答案】
可动离子电荷Q
m
来源:主要来源于Na+等网络改变者。解决办法:为了降低Na+的玷污,可以在工艺过程......
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试题
问答题
一片硅片由0.3um厚的SiO2薄膜覆盖。所需数据见下表,玻尔兹曼常数k=1.38×10-23。(1)在1200℃下,采用H2O氧化,使厚度增加0.5um需要多少时间?。(2)在1200℃下,采用干氧氧化,增加同样的厚度需要多少时间?
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