西门子法中通常用（）还原（），生成多晶硅沉积在（）上。

西门子法的工艺的制备温度需要在（）℃左右。 点击查看答案

在西门子法中需要对高纯的SiHCl3进行提纯，该提纯工艺是通过温度控制使混合在SiHCl3中的不同的（）蒸发的工艺，也称（）。 点击查看答案