化学清洗中是利用硝酸的强（）和强（）将吸附在硅片表面的杂质除去。

在半导体工艺中，硫酸常用于去除（）和配制（）等。 点击查看答案

白光照射二氧化硅时，不同的厚度有不同的（）。 点击查看答案