判断题

扩散的低压工艺有多晶、氮化硅和TEOS。

【参考答案】

正确

(↓↓↓ 点击‘点击查看答案’看答案解析 ↓↓↓)
<上一题 目录 下一题>
热门 试题

判断题
LPCVD多晶的反应气体是二氯二氢硅。
判断题
氮化硅去除使用的是磷酸药液。
相关试题