多项选择题

制作IC过程中一般要掺杂何种杂质?()

A.磷
B.硼
C.硅
D.氮

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热门 试题

单项选择题
湿法刻蚀与干法刻蚀的比较错误的是()。

A.湿法刻蚀是各向同性的,干法刻蚀是各向异性的
B.湿法刻蚀由于存在侧蚀现象,不宜制作很微细的图形
C.干法刻蚀效果好,但工艺要求高
D.干法和湿法刻蚀都不存在晶体缺陷和污染等物理损伤

单项选择题
湿法刻蚀过程中为了减少药液中刻蚀产物的杂质采用什么办法?()

A.摇动
B.超声
C.振动吹泡
D.过滤

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