简答题 列举两种集成电路制造中的器件隔离结构，并比较其优缺点。

【参考答案】

两种最常用的隔离结构：局部氧化隔离法隔离（LOCOS）和浅沟槽隔离（STI）。
局部氧化隔离法会产生&ldqu......

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