单项选择题

如下哪个选项不是半导体器件制备过程中的主要污染物？（）

A.化学物质
B.金属离子
C.融解的氧气
D.细菌

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单项选择题
目前制备SOI材料的主流技术有几种？（）

A.注氧隔离法
B.智能剥离法
C.键合再减薄技术
D.以上都是
单项选择题
硅烷法制备高纯硅的步骤不包括哪一项？（）

A.制备硅烷
B.硅烷热分解
C.精馏
D.固体吸附法
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