单项选择题

‍形成B的超浅结掺杂(剂量为QB)时,为了避免沟道效应可否先注入锑(剂量为QSb)再注入硼?实际注入了多少硼?()

A.可以,实际注硼:QB
B.不可以
C.可以,实际注硼:QB+QSb
D.可以,实际注硼:QB-QSb

<上一题 目录 下一题>
热门 试题

单项选择题
在离子注入掺杂时,有少部分杂质进入衬底后穿过较大距离,这种现象就是()。当偏离晶向()ψc注入时,可以避免。

A.横向效应,>
B.横向效应,<
C.沟道效应,<
D.沟道效应,>

多项选择题
‌关于氧化速率下面哪种描述是正确的?()

A.有杂质(如Na、P等)存在,氧化速率降低
B.生长十几nm厚的栅氧化层时,服从线性氧化速率
C.温度升高氧化速率迅速增加
D.(111)硅比(100)硅氧化得快

相关试题
  • CE定律发展面临的问题包括()。
  • IC集成度和性能得以不断提高的理论基础是(...
  • 芯片粘接的工艺过程包括()。
  • 影响封装芯片特性的温度有()。
  • 下面哪道工序主要是针对晶圆切割之后在显微...