单项选择题

关于涂布光刻胶过程说法错误的是()。

A.涂胶机不需要抽真空
B.硅圆片在涂胶机中要高速旋转,以在表面形成均匀的光刻胶薄膜
C.近年采用正光刻胶的越来越多
D.涂布好光刻胶的硅圆片,要在烘箱中轻微加热固化再进入曝光程序