单项选择题
A.涂胶机不需要抽真空B.硅圆片在涂胶机中要高速旋转，以在表面形成均匀的光刻胶薄膜C.近年采用正光刻胶的越来越多D.涂布好光刻胶的硅圆片，要在烘箱中轻微加热固化再进入曝光程序
A.正光刻胶，负光刻胶B.g线，i线C.正光刻胶，g线D.正光刻胶，i线
A.阳极析出，阴极溶解B.阳极溶解，阴极析出C.阳极溶解，阴极溶解D.阳极析出，阴极析出