单项选择题
A.涂胶机不需要抽真空B.硅圆片在涂胶机中要高速旋转,以在表面形成均匀的光刻胶薄膜C.近年采用正光刻胶的越来越多D.涂布好光刻胶的硅圆片,要在烘箱中轻微加热固化再进入曝光程序
A.正光刻胶,负光刻胶B.g线,i线C.正光刻胶,g线D.正光刻胶,i线
A.阳极析出,阴极溶解B.阳极溶解,阴极析出C.阳极溶解,阴极溶解D.阳极析出,阴极析出