单项选择题

已知一个MOS结构，若不考虑金属—半导体之间的功函数差及有效表面态电荷的影响，其阈值电压为1V，若考虑金属—半导体之间的功函数差及有效表面态电荷的影响，其阈值电压为-1V，则（）

A.该结构衬底为P型硅，是增强型MOS结构
B.该结构衬底为N型硅，是增强型MOS结构
C.该结构衬底为P型硅，是耗尽型MOS结构
D.该结构衬底为N型硅，是耗尽型MOS结构

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热门 试题

单项选择题
一个以P-Si为衬底的理想MOS结构中，（）

A.其栅氧化层厚度越小，阈值电压越大
B.其衬底掺杂浓度越高，阈值电压越大
C.其阈值电压必定是负的
D.其衬底费米势肯定是负的
单项选择题
一个以N-Si为衬底的理想MOS结构中，（）

A.其阈值电压应该是正的
B.强反时，其空间电荷区中的电荷应该是负的
C.积累状态时所加的栅电压应该是负的
D.其费米势应该是负的
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