单项选择题

磁控溅射与二级溅射相比的特点是（）

A.结构简单
B.镀膜速率慢
C.基片温度低、损伤小
D.靶材利用率高

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单项选择题
基片浸入预先制备好的溶胶中，以一定的速度将基片向上提出液面，这时在基片上会形成一层均匀的液膜，这种方法是（）

A.旋覆法
B.喷涂法
C.浸渍提拉法
D.刷涂法
单项选择题
在清洁的超高真空环境下，是具有一定热能的一种或多种分子束流喷射到晶体衬底，在衬底表面发生反应的成膜的技术是（）

A.化学气相沉积
B.离子束辅助沉积
C.多弧离子镀
D.分子束外延
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