单项选择题

与真空蒸发相比，溅射薄膜的台阶覆盖性好，关键在于（）。

A.溅射工艺重复性好
B.溅射角度大
C.溅射工艺复杂
D.溅射原子迁移能力强

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单项选择题
‎以下不属于真空蒸发的局限性的是（）。

A.生长机理简单
B.工艺重复性
C.台阶覆盖能力差
D.薄膜与衬底附着力小
单项选择题
以下不属于电子束加热的优点的是（）。

A.蒸发温度高
B.工艺设备简单
C.热效率高
D.高纯度淀积
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