单项选择题

光刻技术中的反刻工艺，通常应用于（）的情况。

A.对光刻精度较高
B.光刻图案密度较高
C.光刻的材料易于腐蚀
D.光刻的材料难以腐蚀

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单项选择题
在CMOS工艺中，最为昂贵的步骤是：（）

A.腐蚀
B.离子注入
C.光刻
D.CVD
名词解释
什么是等离子体; 等离子体名词解释定义是什么?
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