判断题
通常利用TEM观测的分辨率高于SEM。
【参考答案】
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试题
单项选择题
光刻技术中的反刻工艺,通常应用于()的情况。
A.对光刻精度较高
B.光刻图案密度较高
C.光刻的材料易于腐蚀
D.光刻的材料难以腐蚀
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单项选择题
在CMOS工艺中,最为昂贵的步骤是:()
A.腐蚀
B.离子注入
C.光刻
D.CVD
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