单项选择题

凡是反应物是气相，生成物有一种是固相，并且沉积在基体表面上的过程，这是哪种薄膜制作方法的过程？（）

A.热氧化法
B.CVD法
C.溅射沉积法
D.掩模

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单项选择题
目前在LSI生产中广泛采用的是（）。

A.热氧化法
B.CVD法
C.溅射沉积法
D.掩模
单项选择题
层间膜要使用（）。

A.高介电常数膜
B.低介电常数膜
C.铁电体膜
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