单项选择题
已知MOS结构的硅衬底费米势大于0,则该材料中的电子浓度()空穴浓度。
A.大于
B.小于
C.等于
D.无法判断
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试题
单项选择题
N型硅衬底的MOS结构,当其栅极施加()偏压时,半导体表面附近会形成一层()层。
A.正,电子积累
B.负,电子积累
C.正,空穴反型层
D.正,电子反型层
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单项选择题
一个以N-Si为衬底的理想MOS结构中,其阈值电压应该是()的,积累状态时所加的栅电压应该是()的
A.正,正
B.正,负
C.负,正
D.负,负
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