单项选择题
NEMOSFET饱和区的工作条件为u
GS
()V
t
,u
DS
()u
GS
-V
t
。
A.〉,〈
B.〉,〉
C.〈,〈
D.〈,〉
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单项选择题
MOSFET中的导电沟道是指其()
A.金属层
B.耗尽层
C.反型层
D.氧化层
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多项选择题
在下述几种击穿现象中,哪些击穿是可逆的?()
A.热击穿
B.齐纳击穿
C.雪崩击穿
D.以上都可以
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